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光学玻璃加工中为何需要超纯水设备?
关于光学玻璃应用中的超纯水制备,超纯水设备采用反渗透结合edi装置相结合的工艺来制备电阻率达到18 mω*cm(25℃)的超纯水,完全符合光学玻璃的需求。设备还具有使用---、低耗能、运行成本低、水利用率高、体积小、运行的时间长久等优势,采用的膜技术,有效的去除了水中的导电介质,不离解的胶体物质、气体及有机物等,在---系统高回收率的同时,还有效提高系统的产水水质。
工业纯水设备中edi工艺的优势
工业纯水设备中edi工艺的优势
连续产出超纯水,出水水质具有的稳定度,以高产率产生超纯水(产率可以---95%);
模块化生产,实现设备的全自动控制;
不需要酸碱再生,不会因为再生而停机;
不需要酸碱稀释运输设施和酸碱储备;
设备结构紧凑,体积小,占地面积少;
使用,避免人工接触酸碱;
节省了反冲和清洗用水,无再生污水,不须污水处理设备;
安装简单方便,安装费用低廉;减低设备的运行成本及维修成本;
设备运行操作简单,劳动强度较低;
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水,电子纯水设备价格,可用于清洗,天津电子纯水设备,该超纯水电阻率达到了18兆欧,不含导电介质和金属离子,可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级ro+edi+精混床除盐水处理工艺,电子纯水设备安装,处理后的水质可达到18mω.cm以上,符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术,可有效去除水中的导电介质,以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物,设备的出水纯度高,无---与---,不含任何悬浮物、无化学污染,产出的可谓是高品的超纯水了
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