超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中,edi纯水设备,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质,就会降低设备性能,降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生,增加成本。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德采用反渗透工艺,或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水,天津纯水设备,出水电导率可达18.2mω,满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物,从而达到行业用水要求。
edi超纯水设备是将电渗析技术和离子交换技术相互结合的一种连续电除盐技术。它利用电极两端的高压使带电离子在水中移动,加速离子的去除,电子纯水设备,从而达到水净化的目的,如今,人们对水质的要求越来越高,水处理技术在不断---,工业纯水设备中edi纯水处理技术可算为工艺,很多工业生产过程都离不开工业edi超纯水设备。
edi的工作原理
edi是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能---脱盐来克服电渗析极化而脱盐不,又利用电渗析极化而发生水电离产生h+和oh-,这些离子对离子交换树脂进行连续再生,以使离子交换树脂保持状态。
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