超纯水的水质直接关系到半导体成品率
在半导体生产中,超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的直接关系到半导体的成品率,随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高,对超纯水的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中,电子超纯水设备厂家,只要微粒子、电阻率和toc与气泡中的某一指标稍有差异,就会使半导体元件生产的合格率下降。
edi超纯水设备主要用于电子、石油、化工、制药等对水质要求较高的领域。因此,电子超纯水设备厂,edi超纯水设备的平稳运行非常重要。部分用户会遇到edi超纯水设备压力过高的情况。那么,edi超纯水设备的压力过高又该如何是好呢?
1、当水压过高时,保定电子超纯水设备,需及时进行反洗。如果上部配水器孔很大,树脂膨胀程度较大,电子超纯水设备定制,容易使树脂从上端进入多路阀,导致树脂泄漏。
2、阀门异常会导致水指标不稳定。当水压过高时,多路阀的一侧将形成无法计算的压力,这也可能发生在阀板上。阀门运行可能不顺畅,或开关时阀门不---,导致水质达不到预期效果。
3、当水压过高,需要重新注入盐水时,需要向盐罐注入大量水。高水位可能导致水溢出。
4、当edi超纯水设备压力过高时,盐的吸收速度会变得非常快,缩短了再生时间,无法达到树脂再生的效果。
超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀工艺作为一项重要的表面工程技术,自1840年应用于镀银以来,已有160多年的历史。20世纪以来,随着科技的进步和工业化水平的不断提高,电镀在汽车、机械设备、造船、航空航天、电子、轻工等行业的产品表面处理中不可少。目前,电镀已由一般的装饰防护向高耐腐蚀、功能化发展。随着电镀新工艺、新材料、新设备的不断开发与应用,电镀工业创造了新局面,应用领域不断拓大。
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