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edi超纯水系统进水水质指标控制措施如下：进水co2的控制。反渗透前可通过加碱调节ph值，edi纯水设备生产，尽可能多地去除co2，也可通过脱气塔和脱气膜去除co2。进水硬度控制。结合co2去除，ro进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时，可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。　toc控制。结合其他指标要求，增加ro级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是ro系统进水控制的主要指标之一。合格的ro出水一般都能满足edi超纯水系统进水要求。

超纯水设备出水符合芯片生产用水需求　在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，edi纯水设备报价，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。