超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
超纯水系统的四条维护要点
1、对于进水的预处理问题。
预处理中的砂滤器和碳滤器，在使用过一段时间后砂碳会积累一些泥沙、杂质胶体等较大的颗粒物，需要进行定期的反冲洗，从而提高过滤效果。
2、膜元件维护。
超纯水系统中的反渗透膜作为重要部件，需要细心维护。在设计系统时应该设置自动冲洗功能，半导体纯水设备定制，用以冲走膜片表面的污物，恢复膜通量。
3、定期检查。
运行中我们要定期对系统进行检查，半导体纯水设备安装，以免出现故障。例如检查和调整---的零部件、压力阀门等，还有查看压力仪表作好记录。
4、及时清洗。
定期擦拭设备内外表面的死角部位，清除表面污垢。并且超纯水系统停运时，应及时用清水冲净管道中的残液，否则残液变质后会影响再次启动后的正常运行以及产水。
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