瑞尔-电子超纯水设备-电子纯水设备

edi超纯水系统是电子、化工、电镀等对水质要求较高的行业的一种制水设备。运行能耗低，无酸碱废水排放。虽然设备投资较高，但后期维护成本相对较低，无需酸碱再生。那么，电子纯水设备，edi超纯水系统出水电导率受哪些因素影响?

1、原水：原水水质发生变化，原水电导率高，产水自然受到影响。

2、预处理：机械过滤器、活性炭过滤器未定期及时反冲洗。

3、反渗透膜元件损坏或超过使用寿命。

4、保安过滤器污堵。

5、ro除盐率下降和产水量下降10%或ro进水压力上升10%时，有没有及时进行清洗。

6、在不同的进水流量下，edi超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中，淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的，在一定的淡水流量范围内，流量对树脂的影响较小，因此edi膜堆的总电流变化不大，而水的电导率变化也很小，因此进水流量对水质的影响相对较小

7、工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小，在纯水排出之前，不---将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时，主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高，水的离解度增大，电子纯水设备安装，树脂再生效果好，淡水电导率降低。当工作电压升高到一定程度时，离子交换过程与树脂再生过程达到平衡，产水电导率进一步降低并趋于稳定。然而，过高的工作电压会导致水电离和离子反应扩散过度，降低产水的。因此，建议edi在适当的电压下运行。

半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，该超纯水电阻率达到了18兆欧，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级ro+edi+精混床除盐水处理工艺，电子纯水设备厂家，处理后的水质可达到18mω.cm以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无---与---，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了