瑞尔精工品质-半导体纯水设备-保定纯水设备

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    2023-7-16

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超纯水设备出水符合芯片生产用水需求

超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质,就会降低设备性能,降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生,增加成本。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德采用反渗透工艺,电子超纯水设备,或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2mω,满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物,从而达到行业用水要求。



超纯水设备发展前景广阔

超纯水设备发展前景广阔

传统的超纯水制备工艺通常采用离子交换树脂制备,但离子交换树脂停止生产需要树脂再生,高能耗也增加了劳动力成本。经过多年的实践,edi纯水设备,超纯水设备结合膜分离技术,利用反渗透结合edi装置制备超纯水,出水电阻率可达18.2mω.cm(25℃),满足半导体生产用水的需求。同时,设备还配备了反渗透预脱盐技术,电子纯水设备,以---设备的出水水质。同时,edi处理装置产生的废水较少,不会污染环境,具有较高的环境效益和经济效益,具有广阔的发展前景。

超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势,出水水质符合电池用水相关标准,为半导体用水保驾---。随着超纯水设备技术不断完善,开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生



edi超纯水系统是电子、化工、电镀等对水质要求较高的行业的一种制水设备。运行能耗低,无酸碱废水排放。虽然设备投资较高,但后期维护成本相对较低,无需酸碱再生。那么,edi超纯水系统出水电导率受哪些因素影响?

1、原水:原水水质发生变化,原水电导率高,产水自然受到影响。

2、预处理:机械过滤器、活性炭过滤器未定期及时反冲洗。

3、反渗透膜元件损坏或超过使用寿命。

4、保安过滤器污堵。

5、ro除盐率下降和产水量下降10%或ro进水压力上升10%时,有没有及时进行清洗。

6、在不同的进水流量下,edi超纯水系统出水电导率会随着电流的变化而变化。这是因为在电路中,淡室中的溶液相和树脂相是并联的。离子输送主要是通过树脂相进行的,在一定的淡水流量范围内,流量对树脂的影响较小,因此edi膜堆的总电流变化不大,而水的电导率变化也很小,因此进水流量对水质的影响相对较小

7、工作电压对出水电导率影响很大。如果工作电压太小,在纯水排出之前,不---将离子从淡室中移除。电渗析工艺和树脂电再生工艺相对较弱。此时,保定纯水设备,主要进行离子交换过程。随着工作电压的升高,水的离解度增大,树脂再生效果好,淡水电导率降低。当工作电压升高到一定程度时,离子交换过程与树脂再生过程达到平衡,产水电导率进一步降低并趋于稳定。然而,过高的工作电压会导致水电离和离子反应扩散过度,降低产水的。因此,建议edi在适当的电压下运行。



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