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如果edi超纯水设备压力过高怎么办

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在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的与产量密切相关。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压---，重金属(au、ag、cu等)会降低pn结的耐压力，iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化，v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化。---高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为n型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括---，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的---性。

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