edi超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
3、ph值变化
edi系统进水co2含量高。如果co2含量大于10ppm，edi系统就无法制备超纯度水。
4、铁污染
edi系统运行中的铁污染是导致产水阻力逐渐下降的主要原因。如果原水和预处理系统中使用普通钢管，而不进行内部防腐处理，则系统中的铁含量会增加。铁被腐蚀后，以fe(oh)2的形式溶解在水中，进一步氧化为fe(oh)3。fe(oh)2呈胶态，fe(oh)3呈悬浮状态。树脂对铁有很强的亲和力，被树脂吸附后会发生不可逆反应。在处理阴阳离子交换水时，阴阳离子床将被再生或清洗，以去除树脂中的大部分铁。然而，edi设备在运行中，没有再生和清洗，天津半导体纯水设备，水中的微量铁会粘附在阴阳树脂和阴阳膜上。铁具有很强的导电性。在与阳离子树脂反应之前，它接近edi组件中的负膜水平，并在强电流作用下迁移到正膜。纯铁离子容易穿透，而胶体铁化合物不容易穿透正极膜。它们吸附在阳膜表面，污染阴、阳膜，导致edi组件的工作性能下降，出水水---差，电阻值逐渐降低。
edi膜堆主要由交替排列的阳离子交换膜、浓水室、阴离子交换膜、淡水室和正、负电极组成。离子交换树脂充夹在阴阳离子交换膜之间形成单个处理单元，并构成淡水室，单元与单元之间用网状物隔开，半导体纯水设备厂家，形成浓水室。在直流电场的作用下，淡水室中离子交换树脂中的阳离子和阴离子沿树脂和膜构成的通道分别向负极和正极方向迁移，阳离子透过阳离子交换膜，阴离子透过阴离子交换膜，分别进入浓水室形成浓水。同时edi进水中的阳离子和阴离子跟离子交换树脂中的氢离子和氢氧根离子交换，形成超纯水（高纯水）。超---电流使水电解产生的大量氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行连续的再生。传统的离子交换，离子交换树脂饱和后需要化学间歇再生。而edi膜堆中的树脂通过水的电解连续再生，半导体纯水设备价格，工作是连续的，不需要酸碱化学再生。
edi装置将给水分成三股独立的水流：纯水、浓水、和极水。纯水（90%-95%）为终得到水，浓水（5%-10%）可以再循环处理，极水（1%）排放掉。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，半导体纯水设备安装，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
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