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光学玻璃加工中为何需要超纯水设备?
关于光学玻璃应用中的超纯水制备,超纯水设备采用反渗透结合edi装置相结合的工艺来制备电阻率达到18 mω*cm(25℃)的超纯水,完全符合光学玻璃的需求。设备还具有使用---、低耗能、运行成本低、水利用率高、体积小、运行的时间长久等优势,采用的膜技术,edi超纯水设备厂家,有效的去除了水中的导电介质,不离解的胶体物质、气体及有机物等,在---系统高回收率的同时,还有效提高系统的产水水质。
edi超纯水系统的优势:
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1、无化学污染
树脂的连续电解再生消除了对高腐蚀性化学品的需要。
如果前级ro系统工作正常,则无需清洁。如果异常,edi超纯水设备价格,e-cell的内部设计---应对定期化学清洗。
e-cell消除了对腐蚀性化学再生设备的资本投资。这些部件(如泵和合金)的安装和维护成本已经节省。
2、连续再生
连续再生取代间歇再生,从而无需备用离子交换设备。每个模块可单独进行化学清洗,其余模块可承受短期高流量。
在半导体生产中,超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的与产量密切相关。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压---,重金属(au、ag、cu等)会降低pn结的耐压力,edi超纯水设备厂,iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化,v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化。---高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为n型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括---,保定edi超纯水设备,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的---性。
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