半导体纯水设备-保定纯水设备-瑞尔守护未来

超纯水设备技术应用 出水符合电镀行业用水需要电镀的本质是利用电解原理，让金属或其他材料的产品表面附有金属膜，使产品具有、耐腐蚀、耐磨、美观等功能。因此电镀行业对水质要求更为严格，稍有疏忽，后果就是影响产品美观，降低电镀工艺性能，因此pcb电镀涂装工业经常使用超纯水设备，以满足清洁用水的需要。　　传统的超纯水制取工艺是采用阴阳树脂交换设备，保定纯水设备，其缺点是树脂使用一段时间后要经常再生。随着膜分离技术的不断成熟，采用反渗透工艺，或在反渗透后通过edi和抛光混床工艺，以制得超纯水，其出水电导率可达18.2mω，符合电镀行业的用水需要。

超纯水的水质直接关系到半导体成品率

在半导体生产中，超纯水设备，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的直接关系到半导体的成品率，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水的技术要求也在不断提高。

在超纯水生产过程中，只要微粒子、电阻率和toc与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。