edi超纯水系统进水水质指标控制措施如下: 1、控制进水电导率。控制预处理过程中的电导率,使edi超纯水系统入口电导率小于40μs/cm,edi纯水设备价格,---出水电导率合格,edi超纯水设备,去除弱电解液。 2、工作电压电流控制。系统在运行过程中应选择合适的工作电压电流。同时,edi超纯水系统的电压-电流曲线上存在一个---电压-电流点,它与进水水质、膜和树脂性能、膜结构等因素有关。为了电离一定量的水以产生足够的h+和oh-离子以再生一定量的离子交换树脂,edi纯水设备,所选edi超纯水系统的电压-电流工作点必须大于---电压-电流点。
超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中,几乎每一道工序都需要超纯水清洗,edi纯水设备报价,工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质,就会降低设备性能,降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生,增加成本。随着膜分离技术的不断成熟,莱特莱德采用反渗透工艺,或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水,出水电导率可达18.2mω,满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小,对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物,从而达到行业用水要求。
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