电子超纯水设备让电子行业遇“芯荒” 心不慌芯片的制造过程很复杂，从设计、生产再到封装和测试，每一步都非常重要。在制造环节中要解决的问题有耗材、晶圆、光刻胶、超纯水、各种离子等。芯片制造的关键设备之一是电子电子超纯水设备，可用于生产芯片清洗的超纯水，而超纯水的直接影响到芯片的。电子超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法，将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度。超纯水系统设备的脱盐部件为反渗透膜组件、edi系统和抛光混床，超纯水系统设备通常由预处理部分，超纯水设备，反渗透主机部分，后处理部分共同组成。 电子超纯水设备具有抗污染能力强、节能、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势
edi超纯水设备应用行业
1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。
2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。
3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。
4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。
5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。
6、晶体管生产中主要用于清洗硅片，半导体纯水设备，另有少量用于药液配制。
7、集成电路生产中高纯水清洗硅片
8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。
9、lcd液晶显示屏、pdp等离子显示屏。
10、显像管、萤光粉生产。
11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。
12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。
13、实验室和中试车间。
14、汽车、家电表面抛光处理。
15、光电产品、其他---精微产品。
edi超纯水设备电阻率下降原因有哪些？
3、ph值变化
edi系统进水co2含量高。如果co2含量大于10ppm，edi系统就无法制备超纯度水。
4、铁污染
edi系统运行中的铁污染是导致产水阻力逐渐下降的主要原因。如果原水和预处理系统中使用普通钢管，而不进行内部防腐处理，唐山纯水设备，则系统中的铁含量会增加。铁被腐蚀后，电子超纯水设备，以fe(oh)2的形式溶解在水中，进一步氧化为fe(oh)3。fe(oh)2呈胶态，fe(oh)3呈悬浮状态。树脂对铁有很强的亲和力，被树脂吸附后会发生不可逆反应。在处理阴阳离子交换水时，阴阳离子床将被再生或清洗，以去除树脂中的大部分铁。然而，edi设备在运行中，没有再生和清洗，水中的微量铁会粘附在阴阳树脂和阴阳膜上。铁具有很强的导电性。在与阳离子树脂反应之前，它接近edi组件中的负膜水平，并在强电流作用下迁移到正膜。纯铁离子容易穿透，而胶体铁化合物不容易穿透正极膜。它们吸附在阳膜表面，污染阴、阳膜，导致edi组件的工作性能下降，出水水---差，电阻值逐渐降低。
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