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?edi设备的优点：
在半导体生产中，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的与产量密切相关。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压---，重金属(au、ag、cu等)会降低pn结的耐压力，iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化，纯水设备，v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化。---高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为n型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括---，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的---性。
超纯水的水质直接关系到半导体成品率
在半导体生产中，超纯水可用于晶圆漂洗、化学稀释、化学机械研磨、洁净室环境的加湿源等。超纯水的直接关系到半导体的成品率，随着半导体元件尺寸的缩小和细度的提高，对超纯水的技术要求也在不断提高。
在超纯水生产过程中，edi纯水设备，只要微粒子、电阻率和toc与气泡中的某一指标稍有差异，就会使半导体元件生产的合格率下降。
半导体材料是在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电等领域进行应用的。半导体材料在应用中会需要一定量的超纯水，可用于清洗，edi纯水设备，该超纯水电阻率达到了18兆欧，半导体纯水设备，不含导电介质和金属离子，可满足作为半导体清洗用水的需求。采用两级ro+edi+精混床除盐水处理工艺，处理后的水质可达到18mω.cm以上，符合半导体用水标准。设备采用如今大热的膜技术，可有效去除水中的导电介质，以及水中不离解的胶体物质、气体及有机物，设备的出水纯度高，无---与---，不含任何悬浮物、无化学污染，产出的可谓是高品的超纯水了
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