超纯水设备-保定纯水设备-瑞尔

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    2023-3-24

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edi超纯水设备应用行业

edi超纯水设备应用行业

1、电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

2、电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液。

3、显像管和阴极射线管生产、配料用纯水。

4、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

5、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

6、晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制。

7、集成电路生产中高纯水清洗硅片

8、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

9、lcd液晶显示屏、pdp等离子显示屏。

10、显像管、萤光粉生产。

11、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

12、超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料。

13、实验室和中试车间。

14、汽车、家电表面抛光处理。

15、光电产品、其他---精微产品。



?edi设备的优点:

在半导体生产中,超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的与产量密切相关。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压---,超纯水设备,重金属(au、ag、cu等)会降低pn结的耐压力,电子纯水设备,iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化,v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化。---高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为n型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括---,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的---性。






edi超纯水系统进水水质指标控制措施如下:  1、控制进水电导率。控制预处理过程中的电导率,使edi超纯水系统入口电导率小于40μs/cm,保定纯水设备,---出水电导率合格,edi纯水设备,去除弱电解液。  2、工作电压电流控制。系统在运行过程中应选择合适的工作电压电流。同时,edi超纯水系统的电压-电流曲线上存在一个---电压-电流点,它与进水水质、膜和树脂性能、膜结构等因素有关。为了电离一定量的水以产生足够的h+和oh-离子以再生一定量的离子交换树脂,所选edi超纯水系统的电压-电流工作点必须大于---电压-电流点。



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