超纯水设备出水符合芯片生产用水需求 在芯片生产中，几乎每一道工序都需要超纯水清洗，工件与水直接接触。一旦水质不达标或水中含有杂质，就会降低设备性能，降低产量。---超纯水的是我国自主研发芯片的重要基础。传统的超纯水生产工艺采用阴离子树脂交换设备。这种工艺的缺点是树脂在使用一段时间后会频繁地再生，增加成本。随着膜分离技术的不断成熟，莱特莱德采用反渗透工艺，电子纯水设备，或反渗透后再采用edi和抛光混床工艺生产超纯水，出水电导率可达18.2mω，满足芯片行业用水需求。随着芯片制造工艺中对设计的需求更小，对纯水水质的要求也越来越严格。莱特莱德芯片超纯水设备能在一定程度上去除水中的二氧化硅、颗粒、---、有机物和微生物，从而达到行业用水要求。
edi超纯水系统由几个模块组成，电子超纯水设备，每小时产水量相同。edi模块根据超纯水的实际使用情况启动或停止。手动操作相对频繁，但操作相对简单。只需打开edi进水阀、极水阀、浓水阀，打开电源即可。同时，可根据出水水质调节投加量(---)、电解电压和电流大小即可。 edi作为一种经济实用的型超纯水系统，纯水设备，与混床相比具有以下优点：再生化学品无需再生，运行成本低，不需要中和剂，水资源利用率高，地面和空中工作可以---减少，全自动操作，降低ehs风险，连续运行，出水水质稳定。edi超纯水系统是超纯水降低生产成本、提高生产效率、减少废水排放、降低生产区域风险的有效手段之一。
edi超纯水设备运行过程中电阻率下降的原因与进水水质、压力、流量、电压和进水水质的污染有关，超纯水设备，包括以下几点： 1、前置反渗透设备出水不合格 如果原水含盐量较高，建议采用双级反渗透设备设备进行预脱盐，其电导率应保持在1～3μs/cm。若进水co2含量高，建议使用脱气膜或脱气塔去除co2。如果ph值偏离中性太大，调整ph值，使edi进水ph值为7～8。 2、当前的edi控制系统存在问题 工作电流增大，产水水质不断---。然而，如果电流在增加到顶点后增加，由于水电离产生过量的h+和oh-离子，除了再生树脂外，大量剩余离子作为载流离子导电。同时，由于大量载流离子在运移过程中积累和堵塞，甚至反扩散，导致产水水质下降。
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