电子纯水设备报价-电子纯水设备-瑞尔净---

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    2023-3-13

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?edi设备的优点:

在半导体生产中,电子纯水设备报价,超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的与产量密切相关。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压---,重金属(au、ag、cu等)会降低pn结的耐压力,iii族元素 (b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化,v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化。---高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为n型硅片,导致器件性能下降。水中的颗粒,包括---,电子纯水设备安装,如果附着在硅片表面,会导致短路或性能恶化。可见,超纯水在半导体行业的---性。






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edi超纯水系统进水水质指标控制措施如下:进水co2的控制。反渗透前可通过加碱调节ph值,电子纯水设备厂家,尽可能多地去除co2,也可通过脱气塔和脱气膜去除co2。进水硬度控制。结合co2去除,ro进水可以软化和加碱。当进水含盐量较高时,电子纯水设备,可加入一级反渗透或纳滤结合脱盐。 toc控制。结合其他指标要求,增加ro级别以满足要求。浊度和污染指数的控制。浊度和污染指数是ro系统进水控制的主要指标之一。合格的ro出水一般都能满足edi超纯水系统进水要求。



edi超纯水设备电阻率下降原因有哪些?

有机物污染

  edi纯水设备进水中的有机胶体受到污染,反渗透只能去除相对分子量大于200的有机胶体。如果分子量低于200,它将进入edi超纯水设备。这部分低分子量材料被组件中的阴阳离子交换树脂吸附在骨架的网格和阴阳离子膜的表面上,阻碍了阴阳离子的置换反应和水离子穿透阴阳离子膜的速度,导致edi工作性能下降,电阻率下降。



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