半导体纯水设备厂-半导体纯水设备-天津瑞尔

edi高纯水设备设计应该遵循哪些原则：　　

1、整套装置遵循一个程序运行。即使无用水需求，edi高纯水设备系统也保持循环运行。

2、ro装置带有自循环管路，在储罐液位满，不需进水时，设备自动切换至小循环运行状态，二级ro产水返回中间水储罐。

3、对一级，二级ro产水的电导率、一级产水ph值进行连续性的监控，半导体纯水设备厂，带有不合格水排放和自动报警功能。

4、系统为24h不间断运行，半导体纯水设备，无用水需求时保持布水管路内低流速循环防止死水产生。

5、为方便验证每个处理单元的出水，对单体设备的性能进行确认，各设备单元设置取样点。

清理超纯水设备水垢常采用的化学方法。    1、除去部分成垢离子。碳酸钙水垢的成垢离子是钙及碳酸根（由碳---根转化来）离子。在补充水中钙离子及碱度较高时，可在预处理工序中除去部分硬度和碱度，半导体纯水设备，即采用软化补充水。软化水的成垢离子较低，有利于提高循环水的浓缩倍数。常用的软化方法有离子交换法及石灰软化法两种。    2、加酸或---，降低循环水的ph值，稳定碳---盐。    3、在循环水加入少量阻垢剂，破坏碳酸钙等成垢盐类的结晶生长，防止水垢沉积。